光刻机唯一上市公司,光刻机概念龙头股

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本文主题为：光刻机唯一上市公司,光刻机概念龙头股

文章概况：

提问一：生产光刻机有哪些上市公司

答案：国际一般的是：
ASML--荷兰
尼康--日本
佳能--日本
主要的就这三家，2008年后佳能的市场萎缩的很厉害，现在主要是ASML和尼康了，国内的是上海微电子国家扶持力度非常大，至于是不是上市就不太清楚了。

提问二：华为有没有可能在研制自己的光刻机？

答案：

当然有可能了，但是如果华为将精力用于研制光刻机，那么势必拖累其他环节的研发生产。再者光刻机并不是一朝一夕可以产出的，光刻机是重资金重技术的行业，没有几十年的功力，要追赶上ASML（阿斯麦）是有一定困难的。

但是也有很多困难，因为华为是一家通讯制造为主的企业，核心重点在于通讯领域，并非计算机的芯片产业；光刻机的投入相当巨大，并非华为一家企业能够承受，势必会将华为的发展带入恶性循环。即便美国实施科技封锁，但是市场经济全球化将会是未来发展的主要旋律，并非任何事物均需要自研。例如光刻机中的光学镜头由德国Carl Zeiss提供，光源由美国的Cymer提供，不可能任何部件都实现自行研发。

国内并非没有光刻机的生产企业，比较有名的就是上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）。这家公司成立于2002年3月，是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技技术公司，是生产芯片光刻机的国内唯一企业，也是国家重点扶持科技项目。目前主要致力于大规模工业生产的中高端投影光刻机研发、生产、销售与服务。

这家企业最大的股东为上海电子（集团）总公司，第二大股东上海科技创业投资有限公司，均为国有企业，可以说国家是在背后出力的。MEE把光刻机从设想变成了图纸、把图纸变成了产品、把产品变成了光刻技术的突破，但是目前SMEE能够生产的光刻机还落后于老牌的ASML一代。光刻机从出现到现在一共历经了五代，现在荷兰的ASML已经可以生产出第五代最先进的7nm的光刻机（量产），而上海微电子最先进的只研发出了第四代的90nm，且尚无法量产。所以华为现在要做这个的话难度不是一般的大。

提问三：ASML是唯一能制造极紫外光刻机的厂商，高端芯片制造到底有多难？

答案：

近几年来，中国科技行业遭到国外的严重打压，尤其是电子芯片成为我国半导体领域最突出的短板，生产芯片最重要的设备是光刻机，世界上先进的光刻机主要由荷兰一家名为阿斯麦（ASML）的公司制造，市场占有率超过80%，而其中最先进的极紫外光刻机（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能制造。

ASML

ASML虽然是一家荷兰的公司，但是出口光刻机受到西方国家的严格控制，ASML的大股东包括美国因特尔、台湾积体电路制造（台积电）、韩国的三星、荷兰皇家飞利浦电子公司等等，其中因特尔占有股份大约为15%，台积电大约5%。

ASML的股份结构相当复杂，国际上众多大公司参股，使得ASML形成一个庞大的利益共同体，但是ASML受到《瓦森纳协定》的约束，中国也是被该协定限制的国家之一，一些敏感的设备和技术无法出口到中国。

光刻机是当今世界科技领域的集大成者，是人类当前科技的巅峰产物，ASML之所以能制造最先进的光刻机，也是因为特殊的股权结构，使得ASML能汇集当前各项前沿科技，整合各种零部件。

一台光刻机重达几十吨，包含十多万个零部件，每台机器从下单到交付要21个月，单价格超过1亿美元，即便这样买家还是排着长队，数据显示，ASML在2017年交付了12台光刻机，2018年18台，2019年26台，预计2020年达到35台。

电子芯片

第一台电子计算机诞生于1946年，位于美国的宾夕法尼亚大学，当时研究人员使用了18000个电子管，1万多个电阻和电容，6000多个开关，总重量30多吨，启动时功率高达150千瓦，运算能力为每秒5000次。

每秒5000次的计算能力，还远远比不上现在几块钱的掌上计算器，人类科技之所以有这么大的进步，就是因为有了芯片的发明，而芯片的发明者是美国人杰克·基尔比，他在2000年因此获得诺贝尔奖。

杰克·基尔比1947年毕业于美国伊利诺斯大学，然后就职于德州仪器，担任研发工程师，期间产生了一个天才的想法——把所有的元器件弄到一块材料上，并相互连接成电路。

杰克·基尔比很快付诸实践，并开始构思这个电路，然后以硅作为材料，制造出了人类第一个芯片，他把自己的想法告诉公司后，受到了公司的高度重视，次年，杰克·基尔就申请了专利。

利用杰克·基尔比发明的芯片，我们就可以把一台几十吨的计算机“装进”一个指甲盖大小的体积内，而且运算速度大幅提高，功耗大幅降低。

光刻机原理

光刻机的基本原理并不是机密，但其中的零部件不是谁都能制造的，以至于外国人对我们说“即便把光刻机的所有图纸给你们，你们也造不出来光刻机。”

制造芯片首先需要用到的材料就是高纯度硅，然后把硅切片得到晶圆，接下来就是高精度的晶圆加工，也是光刻机中的核心技术。

我们首先在晶圆上涂一层特殊的材料，该材料在光线的照射下会融化蒸发，于是我们使用绘制好图案的透光模板，经过特殊激光照射后，就能在晶圆表层的材料上刻出图案，然后用蚀刻机刻蚀晶圆，分化学刻蚀和电解刻蚀（比如用等离子体冲刷等等），而没有涂感光材料的部分将保留下来。

经过刻蚀后，晶圆表面就留下了很多凹槽，我们向其中选择性地掺入磷等元素，就能形成N型半导体；掺入硼等元素，就能形成P型半导体；掺入铜等元素，就相当于导线；三者按照一定的空间结构结合，就形成了PN结（PN结可以理解为一个开关），大量PN结按照一定方式进行组合，就能完成相应的数学运算。

实际当中，一块芯片的结构是三维的，在一层光刻和蚀刻完成后，需要清洗干净，然后再光刻和刻蚀下一层，这样一直叠加十几二十层，形成了立体的芯片，也就是这么一张小小的芯片，里面包含了数十亿、甚至上百亿个晶体管（晶体管包括二极管、三极管等等），比如华为麒麟990的晶体管数达到了103亿。

ASML生产的EUV光刻机，每小时能雕刻100多块晶圆，每块晶圆又能分割成许多个块芯片。

光刻机的关键技术

物镜制造技术

光刻机的原理并不难，但是要生产其中的零件并不容易，其中最昂贵且最复杂的零件就是投影物镜，由于芯片光刻的尺寸只有几纳米，所以对投影物镜的误差要求极高，一张直径30厘米的物镜，要求起伏误差不超过0.3纳米，相当于地球这么大的球体，要求表面凹凸不能超过10cm。

这样的精度要求，全世界只有德国的蔡司公司能制造，连日本尼康、佳能这样的透镜大厂也做不出来，更不用说中国的公司了。

光源技术

另外，光刻机中的光源也是一项难以攻克的技术难关，对于深紫外光（DUV）刻，使用的光源波长是193nm，这是光刻机中的一个技术分水岭，芯片发展曾经在193纳米光源停滞了十多年的时间，后来浸没技术缩短波长（原理是在表面镀上一层薄薄的水膜，利用光的折射现象，可以缩短光的波长），加上各项技术的改进，最终193nm光源可以把芯片制程推进到28nm，这也是深紫外光刻的极限。

极紫外光刻（EUV）使用波长更短的激光（13.5nm），相对于深紫外光刻，需要重新研发刻蚀材料、光刻胶、刻蚀工艺等等，对精度的要求进一步提高，目前只有荷兰ASML一家公司能制造极紫外光刻机。

而且西方国家对我国的技术打压是非常狠的，比如2009年的时候，中国上海微电子研发出90纳米的光刻机，在2010年西方国家就解除了90纳米以上的光刻机对中国出口的限制，2015年又解除了65纳米光刻机对中国出口的限制，让中国的光刻机技术发展完全失去市场。

在这样的情况下，中国芯片产业的发展举步维艰，光刻机包含的关键技术太多，一时半会我们是绕不过去的；其实中国并不缺乏人才，只不过人才要用到什么领域，需要政策引导才行，想到中国天眼FAST在2018年的一次网上招聘，年薪10万难觅驻地科研人才，让人感慨不已。

提问四：为什么光刻机只有荷兰一家可以生产？

答案：第一，ASML出身名门，是从飞利浦公司独立出来的。ASML并不是从零做起，它是来自荷兰飞利浦公司，最初是飞利浦的光刻设备研发小组，背后有一定技术积累，以及资金上的支持。当时的项目组面临三大难题：技术落后，市场饱和，资金严重不足。直到1995年公司上市，充裕的资金让公司迎来快速发展。
第二，零部件90%外部采购，这一点和飞利浦很像。ASML光刻机超过90%的零件都是采购的，这和尼康、佳能的生产方式完全不同，使得它站在了巨人的肩膀上，在设备的不同部位都能拿到最高科技的产品。节省很多精力，从而把重心放在部件整合和用户需求上。2000年ASML推出的TWINSCAN双工件光刻机，奠定了公司的霸主地位。
第三，掌握核心技术，并且有蔡司等强大的合作伙伴。ASML对核心技术的投入不遗余力，每年将营业额的15%投入研发。ASML有世界最先进的EUV光刻技术，拥有世界第二专利申请量。看光刻领域的专利申请量，第一名是德国的蔡司，第二名是荷兰ASML，第三名是韩国的海力士。而这两家公司都是ASML的合作伙伴。
第四，独特的合作模式，在EUV时代得到大客户的支持。公司有个规矩：如果想得到优先供货权，必须要投资入股ASML才行。很多知名芯片企业都是ASML的股东，如大名鼎鼎的英特尔、三星、台积电，这三家分别投资ASML41亿、5.03亿、8.38亿欧元。ASML每年13亿欧元的研发费用，三大半导体巨头出一半，自己再出一半。这种独特的合作模式太厉害了，可以说是“亮点”。这样做既获得了巨额的资金，又形成了利益共同体，可谓一举两得。

提问五：h股哪个股票可以涨100倍

答案：不知道，你知道了也告诉我们一声

提问六：光刻胶板块龙头股票有哪些？

答案：

首先我们要了解什么是光刻胶？

光刻胶是一种感光材料，硅片制造中，光刻胶以液态涂在硅片表面，而后干燥成胶膜。光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面，而光刻胶的作用就是避免在硅片表面留下痕迹，在半导体材料中技术难度最大。光刻工艺成本占整个芯片制造工艺的35%，耗费时间占整个芯片工艺的40-50%。

然后，我国的光刻胶正面临着怎样的机会和危机？

危机: 光刻胶可细分为三类：半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶，其中半导体光刻胶的技术要求最高，但我国目前主要较低端的PCB光刻胶，全球光刻胶的高端核心技术被美国和日本垄断，其中日本占据了全球70%以上的市场份额。未来几年光刻胶市场的年均增长率大约是15%，材料的国产化率有望从5%快速提升至40%。

机会: 新冠疫情使得国内进出口贸易大受影响，日本“封城”导致国内光刻胶供需矛盾增加，国产替代刻不容缓。预计2022年半导体光刻胶市场约55亿，为2019年的两倍；面板光刻胶市场将达105亿。

最后，我们来看看光刻胶概念的部分龙头企业:

1、南大光电（国内领先厂家）

2、容大感光（油墨龙头企业）

3、晶瑞股份（微电子化学品龙头）

4、飞凯材料（液晶材料封装材料龙头）

5、上海新阳（半导体消耗品龙头）

关于《光刻机唯一上市公司,光刻机概念龙头股》的相关问题及解答

打新股收益是什么

答：打新股收益指的是投资者通过打新股获得的收益。打新分为打新股票和打新基金，打新股收益具有收益较高且基本无风险的特点。但是投资者需要了解的是，股票市值是随股市涨跌而波动的，如果利用这些市值申购新股所获得的收益，不足于覆盖市值下降所带来的损失，则投资者放弃打新。

股市反弹是什么意思

答：股市反弹是指股价呈不断下跌趋势，终因股价下跌速度过快而反转回升到某一价位的调整现象称为反弹。一般来说，股票的反弹幅度要比下跌幅度小，通常是反弹到前一次下跌幅度的三分之一左右时，又恢复原来的下跌趋势。

在下跌的行情中，股价有时由于下跌速度太快，受到买方支撑面暂时回升的现象。反弹幅度较下跌幅度小，反弹后恢复下跌趋势。

关于《光刻机唯一上市公司,光刻机概念龙头股》的相关评论

股票小呆：《光刻机唯一上市公司,光刻机概念龙头股》分享的不错，希望以后再股票投资中能够用的上

网友评论二

人民财经：最近炒股赚了点钱，但是总觉得自己还是缺乏经验，希望以后能够跟着作者来混。

网友评论三

斯文特：挺不错的内容，虽然有些地方不是很清楚，但我知道作者是一个很好的人

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